前沿设备 | 先进制程芯片分析能力介绍-微区分析技术TEM

透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,简称TEM)，是一种以电子束为光源的基于电子显微学的微观物理结构分析技术，分辨率最高可以达到0.1nm左右。TEM技术的出现，大大提高了人类肉眼观察显微结构的极限，是半导体领域不可少的显微观察设备，也是半导体领域工艺研发、量产工艺监控、工艺异常分析等不能缺少的设备。

     TEM在半导体领域具有非常广泛的用途，如晶圆制造工艺分析、芯片失效分析、芯片逆向分析、镀膜及刻蚀等半导体工艺分析等等，客户群体遍布晶圆厂、封装厂、芯片设计公司、半导体设备研发、材料研发、高校科研院所等。

广电计量的TEM技术团队由陈振博士牵头，团队技术骨干的相关行业经验均在5年以上，不仅具有丰富的TEM结果解析经验，还具有丰富的FIB制样经验，具备7nm及以上先进制程晶圆的分析能力及各种半导体器件关键结构的解析能力，目前服务的客户遍布国内的晶圆厂、封装厂、芯片设计公司、高校科研院所等，并受到客户广泛的认可。